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仁睿电子科技(图)-塑料AF电镀订做-天津塑料AF电镀

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薄膜沉积的传统方法一直是热蒸发，或采用电阻加热蒸发源或采用电子束蒸发源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。如果蒸发沉积的原子在基底表面的迁移率低，则薄膜会含有微孔。当薄膜暴露于潮湿的空气时，这些微孔逐渐被水汽所填充。因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。








稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求，典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同，ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面，都是理想的镀膜解决方案。 ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。

如果从一个介质传递到另一个介质且折射率较低的光线的入射角大于由两种折射率的比值定义的材料临界角 (θC)，则会发生全反射，光线将完全反射（图 4）。入射角等于临界角时，折射角等于 90°。两种光介质界面的透射和反射的振幅系数由菲涅耳透射和反射方程决定: 3

(5)ts=2n1cosθ1n1cosθ1+n2cosθ2ts=2n1cos⁡θ1n1cos⁡θ1+n2cos⁡θ2

(6)rs=n1cosθ1−n2cosθ2n1cosθ1+n2cosθ2rs=n1cos⁡θ1−n2cos⁡θ2n1cos⁡θ1+n2cos⁡θ2



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